扫一扫
分享文章到微信
扫一扫
关注官方公众号
至顶头条
2月27日消息,英特尔大连芯片厂(Fab 68)总经理科比?杰斐逊(Kirby Jefferson)近日在接受上海媒体采访时透露,大连厂采用65纳米的生产工艺已经获得美国政府批准,但最终采用90纳米还是65纳米还未确定。
英特尔曾于2007年3月宣布投资25亿美元巨资在大连新建它位于亚洲的第一座晶圆制造厂。在去年9月的奠基时,英特尔曾宣布大连厂将于2010年开始生产90纳米的晶圆。
这一既定的生产工艺可能有变。科比?杰斐逊近日向媒体透露,美国政府已经批准英特尔大连厂采用65纳米生产工艺,所以英特尔也正考虑大连厂是否要采用65纳米这一更先进的工艺,但最终的情况要根据市场需求而定。目前英特尔投向市场的最先进的量产工艺是45纳米。
资料显示,英特尔大连厂的占地面积将达到16.3万平方米,其无尘室(clean room)面积为1.5万平方米。
婵″倹鐏夐幃銊╂姜鐢瓕鎻╅崚鍥╂畱閹厖绨$憴顤廡妫板棗鐓欓張鈧弬棰侀獓閸濅椒绗岄幎鈧張顖欎繆閹垽绱濋柇锝勭疄鐠併垽妲勯懛鎶姐€婄純鎴炲Η閺堫垶鍋栨禒璺虹殺閺勵垱鍋嶉惃鍕付娴f娊鈧柨绶炴稊瀣╃閵嗭拷